使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式 
高性能型號,調取數(shù)據(jù)簡單,以電子材料為中心,可對應 
多種用途。 
●可變更電極構造提高等離子效果。 
●搭載高精度適配器,高性能RF電源。 
●可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。 
特征 
●硅晶圓的灰化及蝕刻 
●基板表面污垢處理 
●IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理 
●半導體相關部品的電子材料的干式清洗 
●自然氧化膜·有機物去除 
●界面活性處理 
●表面污染物去除                        
							
                            
                13.56MHz 高頻輸出的等離子清洗機,搭載RIE·DP 雙模式。
| 屬性 | 參數(shù) | 
| 等離子模式 | DP/RIE | 
| 高頻電源 | 13.56MHz | 
| 輸出功率 | Max1000W | 
| 有效電極尺寸 | W280×D280mm | 
| 電極 | 平行平板 | 
| 反應氣體 | 聚合控制器2系統(tǒng)(填充氣路另行安裝) | 
| 真空泵(標配) | 約1000L/min | 
| 安全裝置 | 門檢測開關、聯(lián)鎖機構、緊急停止開關、溫度過升防止器等 |